 TSMC, jeden z najwi�kszych producent�w p�przewodnik�w, og�osi� w�a�nie, �e robi nowe post�py w celu wprowadzenia drugiej generacji uk�ad�w 7nm (N7+) wykorzystuj�c technologi� EUV (Extreme Ultraviolet Lithography).
Pierwsza generacj� 7nm dzia�a ju� bardzo dobrze, a produkty firmy znajdziemy chocia�by w Apple iPhone. Oczekiwania s� takie, �e nowa technologia przyniesie od 6 do 12 procent zmniejszenie zu�ycia energii przy 20 procentowym zwi�kszeniu g�sto�ci. B�dzie to te� bardzo pomocne narz�dzie marketingowe dla wielu klient�w firmy.
Wychodz�c ju� poza technologi� 7 nanometr�w, TSMC celuje ju� ku 5 nanometrom (N5). Proces ten ma wykorzystywa� tak�e EUV dla maksymalnie 14 warstw. Produkcja mo�e by� ju� gotowa w kwietniu 2019.
Por�wnuj�c koszty, to wst�pne koszty dla N7 wynios�y 150 milion�w dolar�w. Dla N5 koszt mo�e wzrosn�� do 200-250 milion�w.
�r�d�o: techpowerup.com |
